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孟剑云，鹿业波，左春柽，黄风立（嘉兴学院机电工程学院）.磁场辅助静电纺丝制备Fe₃O₄/PVA纳米纤维[J].微纳电子技术,2017,第10期杨柳^1,2，檀柏梅^1,2，高宝红^1,2，李凤英^1,2，李海清^1,2（河北工业大学电子信息工程学院；天津市电子材料与器件重点实验室）.CMP后清洗中非离子表面活性剂对Cu表面状态的影响[J].微纳电子技术,2017,第10期丁俊文，张国军，杨晟辉，尚珍珍，张文栋（中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室）.高灵敏度宽频带一维MEMS矢量水听器[J].微纳电子技术,2017,第10期孙云飞¹，班建民¹，陶重犇¹，胡伏原¹，孙建东²，田学农¹（苏州科技大学电子与信息工程学院；中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所纳米器件与应用重点实验室）.基于天线优化的GaN/AlGaN HEMT太赫兹探测器[J].微纳电子技术,2017,第10期徐铖，马锡英（苏州科技大学数理学院）.范德瓦尔斯异质结的研究进展[J].微纳电子技术,2017,第10期江自超^1,2，刘玉岭^1,2，王辰伟^1,2，张凯^1,2（河北工业大学电子信息工程学院；天津市电子材料与器件重点实验室）.抛光垫使用寿命对铜CMP平均去除速率一致性的影响[J].微纳电子技术,2017,第10期吴菲^1,2，曾一笑^1,2，樊磊^1,2，谭秋林^1,2，孙东^1,2（中北大学电子测试技术重点实验室；中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室）.基于介电电泳的粒子分离微流控芯片实验[J].微纳电子技术,2017,第10期韩东，牛文举，尹伊君，韩建强（中国计量大学机电工程学院）.电极和匀气盘结构对PECVD氮化硅薄膜性能的影响[J].微纳电子技术,2017,第10期李坤，张艳，王玲，张婧（上海工程技术大学材料工程学院）.基于石墨烯电极的电子转移动力学的研究进展[J].微纳电子技术,2017,第10期韩焕鹏，杨静，杨洪星（中国电子科技集团公司第四十六研究所）.MEMS用硅单晶缺陷对各向异性腐蚀的影响[J].微纳电子技术,2017,第10期曹淑瑛，孙帅帅，郑加驹，王雪源，韩恭万，刘璐（河北工业大学电磁场与电器可靠性省部共建重点实验室）.磁致伸缩振动能量采集器的研究进展[J].微纳电子技术,2017,第9期程翔¹，刘华¹，王昢¹，王帝¹，李绍良²，赵万良²，成宇翔²（上海交通大学电子信息与电气工程学院；上海市航天控制技术研究所上海市空间智能控制技术重点实验上海惯性工程技术研究中心）.核磁共振陀螺仪研究进展[J].微纳电子技术,2017,第9期任子明^1,2，白冰^1,2，王任鑫^1,2，张国军^1,2（中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室；中北大学电子测试技术重点实验室）.基于梳齿式电容加速度计的深硅刻蚀[J].微纳电子技术,2017,第9期王淑香¹，童军杰¹，徐立²（广州航海学院船舶与海洋工程学院；广东省计量科学研究院）.热边界层发展对微通道中纳米流体传热的影响[J].微纳电子技术,2017,第9期钱栋梁，葛道晗，程广贵（江苏大学微纳米科学技术研究中心）.石墨烯对多孔硅光学性能的影响[J].微纳电子技术,2017,第9期张凯^1,2，刘玉岭^1,2，王辰伟^1,2，牛新环^1,2，江自超^1,2，韩丽楠^1,2（河北工业大学电子信息工程学院；天津市电子材料与器件重点实验室）.CMP中TEOS去除速率的一致性[J].微纳电子技术,2017,第9期吴亚宁¹，张伟²，王逸群²，黄健¹，缪小虎²，王进²，金晓盛²（上海大学材料科学与工程学院；中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所纳米加工平台）.高深宽比石英结构的NLD刻蚀[J].微纳电子技术,2017,第9期时建^1,2，梁静秋¹，陈成¹，吕金光¹，秦余欣¹，高丹^1,2（中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室；中国科学院大学）.MOEMS集成波长选择开关的设计及研究[J].微纳电子技术,2017,第9期杨洁，张萌，邵燕，孙永娇，位子涵，胡杰（太原理工大学信息工程学院微纳系统研究中心）.氧化钨纳米纤维的制备及其对H₂S的气敏特性[J].微纳电子技术,2017,第9期潘开林，杨帆，秦晴，李婷婷，曹威武（桂林电子科技大学机电工程学院）.可延展柔性电子基底微观分析[J].微纳电子技术,2017,第9期李文豪，李杰，杨文卿，刘一鸣（中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室）.一种MEMS陀螺仪温度漂移误差补偿方法[J].微纳电子技术,2017,第8期程嵩^1,2，卢维尔^1,3，王桐¹，夏洋^1,4，李楠¹（中国科学院微电子研究所微电子仪器设备研究中心；中国科学院大学；中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室；集成电路测试技术北京市重点实验室）.直流辉光放电对石墨烯氮掺杂的制备与特性[J].微纳电子技术,2017,第8期吴玉玲¹，毕瑞可¹，张杰¹，吴长青¹，张为中²，郭航¹（厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院；中国电信公司新疆分公司）.石墨烯湿法转移过程工艺优化[J].微纳电子技术,2017,第8期叶伟¹，崔立堃¹，王旭飞¹，方坤²（陕西理工大学机械工程学院；轻工业钟表研究所精密机电事业部）.深度等离子体反应刻蚀技术制备擒纵机构[J].微纳电子技术,2017,第8期唐继英^1,2,3，刘玉岭^1,2，王辰伟^1,2，洪姣^1,2（河北工业大学电子信息工程学院；天津市电子材料与器件重点实验室；天津冶金职业技术学院）.多层铜布线CMP后BTA去除和铜表面腐蚀抑制[J].微纳电子技术,2017,第8期首页上一页 1 2 3 4 5 下一页尾页共有6页，转到页

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