期刊的影响因子--文章列表

期刊文章列表
李艳丽，刘显和，伍强（复旦大学微电子学院）.先进光刻技术的发展历程与最新进展[J].激光与光电子学进展,2022,第9期陈修国，王才，杨天娟，刘佳敏，罗成峰，刘世元（华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室）.集成电路制造在线光学测量检测技术：现状、挑战与发展趋势[J].激光与光电子学进展,2022,第9期周子逸^1,2，董贤子¹，郑美玲¹（中国科学院理化技术研究所仿生智能界面科学中心；中国科学院大学未来技术学院）.数字微镜无掩模光刻技术进展及应用[J].激光与光电子学进展,2022,第9期李一鸣^1,2，杨霖³，王晓浩¹，单硕楠¹，邓富元¹，贺志学²，刘政通²，李星辉^1,2,4（清华大学深圳国际研究生院；鹏城实验室；工业和信息化部电子第五研究所；清华-伯克利深圳学院）.光刻套刻误差测量技术[J].激光与光电子学进展,2022,第9期杨宏兴^1,2，付海金^1,2，胡鹏程^1,2，杨睿韬^1,2，邢旭^1,2，于亮^1,2，常笛^1,2，谭久彬^1,2（哈尔滨工业大学超精密光电仪器工程研究所；哈尔滨工业大学超精密仪器技术及智能化工业和信息化部重点实验室）.超精密高速激光干涉位移测量技术与仪器[J].激光与光电子学进展,2022,第9期马旭¹，张胜恩¹，潘毅华¹，张钧碧¹，余成臻¹，董立松^2,3，韦亚一^2,3（北京理工大学光电学院，光电成像与系统教育部重点实验室；中国科学院微电子研究所先导工艺研发中心；中国科学院大学微电子学院）.计算光刻研究及进展[J].激光与光电子学进展,2022,第9期陈国栋^1,2，张子南^1,2，李思坤^1,2，王向朝^1,2（中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室；中国科学院大学材料与光电研究中心）.深紫外计算光刻技术研究[J].激光与光电子学进展,2022,第9期付婧媛，苏芮，阮晓东，付新（浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室）.浸没式光刻机浸液系统污染控制研究现状及进展[J].激光与光电子学进展,2022,第9期朱俊豪¹，汪盛通¹，李星辉^1,2（清华大学深圳国际研究生院；清华-伯克利深圳学院）.面向光刻机晶圆台的超精密光栅定位技术[J].激光与光电子学进展,2022,第9期袁淼，孙义钰，李艳秋（北京理工大学光电学院）.先进计算光刻[J].激光与光电子学进展,2022,第9期李自力，胡晓华，熊诗圣（复旦大学信息科学与工程学院）.亚十纳米导向自组装与深紫外混合光刻技术[J].激光与光电子学进展,2022,第9期曹译莎^1,2，唐锋^1,2，王向朝^1,2，刘洋^1,2，冯鹏¹，卢云君^1,2，郭福东¹（中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室；中国科学院大学材料科学与光电工程中心）.光刻投影物镜畸变检测技术[J].激光与光电子学进展,2022,第9期李世光^1,2,3，郭磊^1,2,3，曾海峰^1,2,3，戢逸云^1,2,3，王寅^1,2,3，肖燕青³（中国科学院大学集成电路学院；中国科学院微电子研究所成果转化部；江苏影速集成电路装备股份有限公司）.光刻技术中的聚焦控制[J].激光与光电子学进展,2022,第9期殳峰¹，许智磊²，何乐³，杨晓峰⁴（复旦大学工程与应用技术研究院；上海交通大学清源研究院；上海微电子装备(集团)股份有限公司；复旦大学微电子学院专用集成电路与系统国家重点实验室）.系统工程方法及其在先进半导体装备领域的应用[J].激光与光电子学进展,2022,第9期齐月静^1,2，裴雨多^1,2，宗明成^1,2，李璟¹，陈进新¹（中国科学院微电子研究所；中国科学院大学）.光刻调焦调平测量技术的研究进展[J].激光与光电子学进展,2022,第9期梁紫鑫，赵圆圆，段宣明（暨南大学光子技术研究院，广东省光纤传感与通信技术重点实验室）.激光超衍射光刻原理与技术[J].激光与光电子学进展,2022,第9期杜刚^1,2,3，康晓旭⁴，曾江涛^1,2,3，曾涛^1,2,3（上海材料研究所压电材料及器件研究中心；上海电子线路智能保护工程技术研究中心；上海材料研究所上海市工程材料应用与评价重点实验室；上海集成电路研发中心有限公司）.多层压电驱动器在光刻机中的应用[J].激光与光电子学进展,2022,第9期陈宝钦（中国科学院微电子研究所；中国科学院大学集成电路学院）.光刻技术六十年[J].激光与光电子学进展,2022,第9期骆志军^1,2,3，刘紫玉^1,2,3，王舒虹^1,2,3，王端^1,2,3，甘棕松^1,2,3，杜炘瑶^1,2,3（华中科技大学武汉光电国家研究中心；华中科技大学信息存储系统教育部重点实验室；深圳华中科技大学研究院）.下一代光刻机技术的探索：第六代双光束超分辨光刻机概念、技术和未来[J].激光与光电子学进展,2022,第9期郭旭东^1,2，杨国强^1,2，李嫕^3,2（北京分子科学国家研究中心中国科学院光化学重点实验室；中国科学院大学；中国科学院理化技术研究所光化学转换与功能材料重点实验室）.极紫外（EUV）光刻胶的研发[J].激光与光电子学进展,2022,第9期姜龙滨¹，丁润泽¹，丁晨阳¹，杨晓峰²，徐云浪²（复旦大学工程与应用技术研究院上海市超精密运动控制与检测工程研究中心；复旦大学微电子学院专用集成电路与系统国家重点实验室）.光刻机运动台控制方法研究进展[J].激光与光电子学进展,2022,第9期张志平，杨晓峰（复旦大学工程与应用技术研究院上海市超精密运动控制与检测工程研究中心）.激光外差干涉技术在光刻机中的应用[J].激光与光电子学进展,2022,第9期刘佳红^1,2，张方¹，黄惠杰^1,2（中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室；中国科学院大学）.步进扫描投影光刻机照明系统技术研究进展[J].激光与光电子学进展,2022,第9期刘杨，李理，陈思文，谭久彬（哈尔滨工业大学超精密仪器技术及智能化工信部重点实验室）.面向IC光刻的超精密运动台控制技术[J].激光与光电子学进展,2022,第9期成维^1,2，李思坤^1,2，张子南^1,2，王向朝^1,2（中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室；中国科学院大学材料与光电研究中心）.极紫外光刻掩模缺陷检测与补偿技术研究[J].激光与光电子学进展,2022,第9期张子南^1,2，李思坤^1,2，王向朝^1,2（中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室；中国科学院大学材料与光电研究中心）.EUV光刻三维掩模成像研究进展[J].激光与光电子学进展,2022,第9期施伟杰¹，俞宗强¹，蒋俊海¹，车永强²，李思坤³（东方晶源微电子科技(北京)有限公司；中芯北方集成电路制造(北京)有限公司；中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电子技术实验室）.芯片制造语境下的计算光刻技术[J].激光与光电子学进展,2022,第9期廖陆峰^1,2，李思坤^1,2，张子南^1,2，王向朝^1,2（中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室；中国科学院大学材料与光电研究中心）.光源掩模联合优化技术研究[J].激光与光电子学进展,2022,第9期江锐（中国科学院北京微电子研究所光电技术研发中心；北京科益虹源光电技术有限公司）.准分子激光光刻光源关键技术及应用[J].激光与光电子学进展,2022,第9期王向朝¹，韦亚一²，邱建荣^3,4（中国科学院上海光学精密机械研究所；中国科学院微电子研究所；浙江大学光电科学与工程学院；浙江大学微纳光子学研究所）.“光刻技术”专题前言[J].激光与光电子学进展,2022,第9期首页上一页 22 23 24 25 26 下一页尾页共有37页，转到页

期刊文章列表